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Virtueller Rundgang (3)

Analyse und Messung

 

Rasterelektronenmikroskop (REM), Auflösung 10 nm.

 

Atomic Force Microscope (AFM) in Reinraum 2. Rauschpegel unter 3 nm.

 

Hinten: Zur Messung von DC-Eigenschaften bei Temperaturen von 4,2 bis 300 Kelvin.
Rechts: Ellipsometer zur Schichtdickenmessung.

 

Hochfrequenz-Messplätze mit Netzwerkanalysator (bis 67 GHz), Spektrumanalysator (bis 26 GHz),
diverse HF-Sweeper (bis 20 GHz) und Sampling Oszilloskop (bis 50 GHz). Desweiteren erkennt
man einen Semiconductor Parameter Analyzer sowie einen Spitzenmessplatz.

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