Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme

Thin Film Technology

 

Anlage zur Herstellung dünner NbN-Filme durch reaktives Magnetron-Sputtern. Diese Schichten
werden z.B. für Single-Photon-Detektoren und Hot-Electron-Bolometer benötigt.

Magnetron-Sputter-Anlage zur Herstellung von Nb(NbN)/Au-Multischichten. So werden Antennen-
strukturen, z.B. auch im THz-Bereich, erzeugt.

Anlage zur Herstellung von Ti/Au-Multischichten mittels thermischen Verdampfens und HF-Ar-Plasma.

Magnetron-Sputter-Anlage zur Herstellung von Nb/Al/AlOx-Multischichten. Diese Trilayer sind die
Grundlage für die Produktion von Josephson-Tunnelkontakten.

Pulsed Laser Deposition (PLD) zur Herstellung dünner High-Tc-Filme.

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