Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme

Micro- und Nanostructuring

 

Im Hintergrund sieht man unseren Reinraum (Fläche 50m2)

 

Reinraum 1: Fotolithografie (Auflösung 1 bis 2 µm), Reinigung, optische Mikroskopie...

 

Reinraum 2: Elektronenstrahllithografie (Auflösung 10 nm, als Mikroskop Auflösung von 2 nm).

 

         

Ionenstrahlätzen (IBE) mit Argon-Ionen                            Reaktives Ionenätzen (RIE) mit CF4, Ar und O2.

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