Analyse und Messung
Rasterelektronenmikroskop (REM), Auflösung 10 nm.
Atomic Force Microscope (AFM) in Reinraum 2. Rauschpegel unter 3 nm.
Hinten: Zur Messung von DC-Eigenschaften bei Temperaturen von 4,2 bis 300 Kelvin.
Rechts: Ellipsometer zur Schichtdickenmessung.
Hochfrequenz-Messplätze mit Netzwerkanalysator (bis 67 GHz), Spektrumanalysator (bis 26 GHz),
diverse HF-Sweeper (bis 20 GHz) und Sampling Oszilloskop (bis 50 GHz). Desweiteren erkennt
man einen Semiconductor Parameter Analyzer sowie einen Spitzenmessplatz.