Micro- und Nanostructuring
Im Hintergrund sieht man unseren Reinraum (Fläche 50m2)
Reinraum 1: Fotolithografie (Auflösung 1 bis 2 µm), Reinigung, optische Mikroskopie...
Reinraum 2: Elektronenstrahllithografie (Auflösung 10 nm, als Mikroskop Auflösung von 2 nm).
Ionenstrahlätzen (IBE) mit Argon-Ionen Reaktives Ionenätzen (RIE) mit CF4, Ar und O2.
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