Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS)

VLSI - Technologie

  • Typ: Vorlesung
  • Lehrstuhl: Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
  • Semester: Wintersemester
  • Zeit:

    Achtung: Vorlesung wird im WS19/20 nicht gelesen!

    Als Ersatzfach für die Vertiefungsrichtung 22 ist die Vorlesung Thin Films: technology, physics and application I vorgesehen.

  • Dozent:

    Professor Michael Siegel

  • SWS: 2
  • ECTS: 3
  • LVNr.: 23660
  • Prüfung: mündlich, ca. 20 min.
  • Hinweis:

    Vorlesungsunterlagen finden Sie auf der ILIAS-Plattform. Passwort wird in der ersten Vorlesung bekanntgegeben.

    Die Termine werden in der Vorlesung und auf der ILIAS-Plattform bekanntgegeben.

Ziel:
Die Vorlesung vermittelt das Wissen über höchstintegrierte Schaltkreistechnologien und die Grundlagen der Umsetzung eines Schaltkreisentwurfes in die technologische Ebene.

Inhalt:
Die CMOS-Technik ist heute die Standardtechnologie für die Herstellung höchstintegrierter Schaltkreise. Die Vorlesung vermittelt das Wissen der modernen Halbleitertechnologien mit dem Schwerpunkt auf der CMOS-Technologie. Es werden alle Verfahren und Prozesse zur Herstellung von höchstintegrierten Schaltkreisen behandelt. Ein wesentlicher Schwerpunkt besteht in der Behandlung des funktionellen Aufbaus von Basiszellen der Schaltkreistechnologie. Die wesentlichen Triebfedern der Halbleitertechnologie sowie ihre Grenzen werden besprochen. Neue Konzepte unter Einsatz nanoelektronischer  Ansätze werden behandelt.